カーボンナノチューブを用いたトランジスタ、シリコンを上回る性能を見せる 13
ストーリー by reo
シリコンはダメだね、爆発するし 部門より
シリコンはダメだね、爆発するし 部門より
dodonga 曰く、
IBM のトーマス・J・ワトソン研究所の研究者らが、カーボンナノチューブ (CNT) を用いたトランジスタの性能がシリコントランジスタを上回るという実験結果を発表した (CNET Japan の記事、doi:10.1021/nl203701gより) 。
これまで 10 ナノメートル以下級の CNT を用いたトランジスタについては理論上の考察が主で実験結果などは示されてこなかったが、実際に作って評価してみた、というもの。CNT トランジスタは 0.5 V の低電圧でシリコントランジスタと比較して 4 倍以上の電流密度の向上を実現しており、従来の理論研究を上回る性能を示した。
今回の実験は特性計測を目的としており、新しい製造プロセスを開発するためのものではないが、低電圧化、小型化させつつ処理能力を向上を実現できる未来につながるかもしれない。
カ～ボンナノチュ～ブ、トランジスタ、シリコン (スコア:0)
あとコピペして気づきましたがCNnetでなくてCNetですね。
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以上ACでのいちゃもんでした
Re:カ～ボンナノチュ～ブ、トランジスタ、シリコン (スコア:1)
dodongaです。
あぅ、編集様に期待です；
閑話休題
Re: (スコア:0)
それはともかく、どうした?
「閑話休題」ときたら、やっぱ続きが読みたい。
Re: (スコア:0)
うざくてなんぼの久保田さん？ですから
トランジスタの性能 (スコア:0)
低電圧で動作するということが性能といえなくもないが、
どちらかというと特性（挙動）という気がする。
#アホちゃいまんねんperformanceでんねん
LSI化は先の話 (スコア:0)
実用化出来るかどうかは、現在のプレーナ・プロセスに相当する量産向けの製造技術の開発しだいですね
多数のカーボンナノチューブを規則正しく並べて回路を作ることが出来るかどうか？
Re:LSI化は先の話 (スコア:1)
今のところLSIと言うよりも, 古の点接触型トランジスタに近いんじゃないかと思う.
Re:LSI化は先の話 (スコア:2)
シリコンウエハーにマスクしてイオン注入、なんて言うような従来法では回路は作れないでしょうけど、トランジスタ作った方が今のLSIを想像してないと思う。
高速回路の選択肢として考えると、ワクワクする話題だと思うんですけど。
hoihoi-p 得意淡然、失意泰然。
日本の企業は？ (スコア:0)
カーボンナノチューブって日本発材料だとか言ってたけど、
日本の会社はもうやってないの？
NECだっけ？撤退した？
Re:日本の企業は？ (スコア:3, 参考になる)
NECもまだやってると言えばやってますけど、日本の企業は（というか世界でもほとんどの企業が）撤退に近い状況ですね。素子とか特性の研究は細々と続いているものの、任意配列とかその辺の実現で何かブレイクスルーが起きるまではこのままなんじゃないでしょうか。
（樹脂などへの混ぜ込みとかのバルクでの利用の研究はそれなりにあります）
実用とかを完全に無視した、量子現象の研究なんぞの基礎研究周りではそれなりに便利な道具として使われたりもしますが、これは「CNTを使おう」と言うよりは「研究したい内容に便利な素子がそこにあったから使ってる」って感じになりますしねぇ……
日本だと、企業と言うよりは産総研がCNTの研究の本山になってる気が。関係者が集まってますし。
Re: (スコア:0)
×カーボンナノチューブって日本発材料だとか言ってたけど、
○カーボンナノホーンって日本発材料だとか言ってたけど、
>>日本の会社はもうやってないの？
世界中の会社がやってるが、どこの会社も製品レベルの事業化にはいたっていない
どっちだ (スコア:0)
グラフェントランジスタとどっちすげーんだ？
量産性、LSI化へ道、コスト、スイッチング速度、電力、、、、